Τεχνικά χαρακτηριστικά

• Τεχνολογία: Optical Emission Spectroscopy (OES)
• Detector: High-resolution multi-CMOS
• Πηγή διέγερσης: Solid-state, computer-controlled
• Τύπος διέγερσης: High Energy Pre Spark (HEPS)
• Συχνότητα: 80–1000 Hz
• Τάση: 250–500 V
• Τροφοδοσία: 100–240 V AC, 50/60 Hz
• Μέγιστη κατανάλωση: 430 W
• Κατανάλωση σε standby: 45 W (50 W με την πηγή ενεργοποιημένη)
• PC/Interface: Εξωτερικό PC workstation με περιβάλλον Microsoft Windows
• Απαιτούμενο αέριο: Argon υψηλής καθαρότητας
• Ποιότητα Argon: ≥4.8 (99,998%), ενώ για εφαρμογές ανάλυσης αερίων απαιτείται 5.0
• Πίεση εισόδου Argon: 3 bar
• Θερμοκρασία λειτουργίας: 0 έως +40 °C
• Θερμοκρασία αποθήκευσης: −10 έως +60 °C
• Υγρασία: 10–90%, χωρίς συμπύκνωση

OE720

• Φασματικό εύρος: 174–670 nm
• Επέκταση φασματικού εύρους: έως 766 nm κατόπιν αιτήματος
• Διαστάσεις: 425 × 535 × 760 mm
• Βάρος: 84 kg
• Εφαρμογή: Ανάλυση μη αερίων στοιχείων σε μέταλλα και κράματα
• Χαμηλά όρια ανίχνευσης για κύρια, residual, trace, treatment και tramp elements.

OE750

• Φασματικό εύρος: 119–670 nm
• Επέκταση φασματικού εύρους: έως 766 nm κατόπιν αιτήματος
• Διαστάσεις: 425 × 535 × 760 mm
• Βάρος: 88 kg
• Επιπλέον δυνατότητα: Ανάλυση αερίων
• H και O: Ανάλυση σε Ti
• O: Ανάλυση σε Cu
• N: Εφαρμογές ανάλυσης σε χάλυβα/σιδηρούχα κράματα
• Ειδικά για ultra-low carbon steels: δυνατότητα ελέγχου σε πολύ χαμηλά επίπεδα.

Εφαρμογές

• Ποιοτικός έλεγχος (QA/QC) μετάλλων και κραμάτων.
• Έλεγχος τήγματος (melt control) σε χυτήρια και μεταλλουργικές εγκαταστάσεις.
• Process control κατά την παραγωγή μετάλλων.
• Incoming material inspection και έλεγχος εισερχόμενων πρώτων υλών.
• Grade identification / alloy identification.
• Έλεγχος κύριων στοιχείων κραματοποίησης.
• Ανάλυση residual και tramp elements σε πολύ χαμηλές συγκεντρώσεις.
• Ανάλυση trace και treatment elements.
• Χάλυβας και σίδηρος, συμπεριλαμβανομένων χυτοσιδήρων και απαιτητικών εφαρμογών αζώτου.
• Αλουμίνιο και κράματα αλουμινίου, συμπεριλαμβανομένων cast και wrought alloys.
• Χαλκός και κράματα χαλκού, όπως bronze, brass και Cu-Ni.
• Νικέλιο και κράματα νικελίου, όπως Hastelloy, Inconel και Monel.
• Τιτάνιο και κράματα τιτανίου.
• Μαγνήσιο, κοβάλτιο, μόλυβδος, κασσίτερος και ψευδάργυρος και τα αντίστοιχα κράματα.
• Ανάλυση αερίων σε τιτάνιο – H, O και N με το OE750.
• Ανάλυση οξυγόνου σε χαλκό με το OE750.
• Έλεγχος μετάλλων που περιέχουν scrap/recycled material, όπου απαιτείται έλεγχος tramp και residual elements

Πλεονεκτήματα

• Πολύ χαμηλά όρια ανίχνευσης (LOD) για απαιτητικές εφαρμογές μετάλλων.
• Υψηλή οπτική ανάλυση χάρη στη multi-CMOS τεχνολογία.
• Πλήρης στοιχειακή ανάλυση για μεγάλο εύρος μεταλλικών υλικών.
• Δυνατότητα ελέγχου κύριων, residual, trace, treatment και tramp elements.
• OE750 με δυνατότητα ανάλυσης αερίων, επεκτείνοντας σημαντικά το εύρος των εφαρμογών.
• Υψηλή μακροχρόνια σταθερότητα, ακρίβεια και επαναληψιμότητα.
• Mid-pressure optical system για υψηλή σταθερότητα και οπτική διαφάνεια.
• Μειωμένες ανάγκες συντήρησης χάρη στη σχεδίαση του spark stand και του οπτικού συστήματος.
• Μειωμένη κατανάλωση Argon και ηλεκτρικής ενέργειας, σημαντικό πλεονέκτημα για λειτουργία 24/7.
• Γρήγορες μετρήσεις, κατάλληλες για καθημερινό ποιοτικό έλεγχο και παραγωγικές διαδικασίες.
• Χαμηλό λειτουργικό κόστος σε σχέση με συστήματα αντίστοιχης αναλυτικής απόδοσης.
• Μεγάλη βάση δεδομένων μεταλλικών grades, με περισσότερες από 15 εκατομμύρια εγγραφές, πάνω από 420.000 υλικά και δεδομένα από 82 χώρες.
• Γρήγορη αναζήτηση και ταυτοποίηση grades, συμπεριλαμβανομένων προτύπων όπως AISI/ASTM, DIN, EN, BS, JIS και GOST.
• Δυνατότητα cloud-based data management και ιχνηλασιμότητας αποτελεσμάτων.
• Διαθέσιμα adapters, wire adapters, sample preparation devices, consumables και floor-stand configuration.

Σύντομη σύγκριση OE720 – OE750